德國Hellma氟化鈣CaF?窗口片，采用坩堝下降法原生單晶生長，經過高溫精密退火處理，**應力雙折射≤0.5nm/cm，折射率均勻性優異，有效降低波前畸變，是光譜儀器、航天空間光學、深紫外激光系統的高性能晶體元件。

　　該窗口片透光覆蓋130?nm?9?μm，從真空紫外延伸至中紅外波段，深紫外透過表現出眾，低色散、低熒光，可規避光譜檢測時的背景噪聲干擾。相較于普通氟化鈣產品，Hellma原廠材料內部應力控制嚴苛，內部缺陷少，批次性能高度一致，避免因殘余應力造成成像偏移、測量誤差，滿足高精度光學系統對光路穩定性的硬性指標。

　　高激光損傷閾值、抗電離輻射的材料特性，使其適配多類嚴苛工況。

　　應用場景：各類FTIR傅里葉紅外光譜儀、紫外?可見分光光度計、拉曼分析設備的光學窗口；航天衛星載荷、空間探測儀器窗口，抵御太空輻照環境；同時適配193/248nm準分子激光、半導體光刻配套光路窗口、真空設備觀察窗。

　　供貨形態包含精磨毛坯、成品拋光窗口片，支持定制晶向、尺寸、表面質量，可配套AR增透膜等鍍膜方案。德國原廠出品，每批次附帶COC檢測證書，應力雙折射、透過率、均勻性等關鍵參數均可溯源，適合科研機構、儀器廠商、航天及半導體企業選型采購。

　　1.精密光譜分析儀器

　　Hellma氟化鈣窗口片是FTIR紅外光譜、紫外光譜、拉曼光譜、微量熒光檢測設備的標配光學窗口。

　　普通玻璃、石英無法透過中紅外波段，且自帶熒光干擾、折射率不均，會造成基線漂移、檢測誤差。HellmaCaF?窗口片低熒光、無背景干擾、130nm–9μm全波段通透，搭配極低應力雙折射特性，光路穩定性，可保證每一次光譜掃描基線平直、重復性高。廣泛用于材料成分分析、氣體檢測、環境監測、醫藥檢測、化工高精度光譜分析設備，分析儀器廠商的核心光學配件。

　　2.半導體DUV光刻光學系統（高精度制程場景）

　　專為193nm/248nm準分子激光光刻**設計，是先進制程光刻設備的關鍵基材。

　　光刻光路對波前畸變、色差、均勻性要求高，Hellma氟化鈣經過精密退火，應力雙折射≤0.5nm/cm，折射率均勻性，可大幅抑制光路色差與成像偏移。廣泛用于光刻投影物鏡、照明系統鏡片、激光諧振腔窗口、真空隔離窗口，穩定支撐7nm–45nm芯片微納制程精度，長期高能量激光輻照下不衰減、不畸變，是國際主流光刻設備的標準材料。

　　3.高功率準分子激光與深紫外激光設備

　　適用于ArF、KrF準分子激光、深紫外加工激光、科研高能激光系統。

　　Hellma氟化鈣具有高激光損傷閾值、低非線性折射率、抗紫外老化優勢，高能激光持續沖擊下不會產生應力形變、光斑畸變。常用于激光輸出窗口、真空腔密封窗口、光束整形鏡片、激光檢測光路，解決普通光學材料容易燒點、老化、透光衰減的問題，適合工業精密加工、科研激光、醫療激光設備長期穩定運行。

　　4.航天航空&空間天文光學

　　空間光學設備長期面對太空輻射、高低溫交變、真空環境，普通晶體容易性能漂移、產生雙折射偏差。

　　Hellma氟化鈣窗口片抗輻照、性能穩定、無應力漂移、超低光學畸變，可長期在軌穩定工作。廣泛應用于衛星探測窗口、空間望遠鏡、深空紫外探測載荷、航空光學檢測系統，是國內航天科研院所、天文觀測項目常用的進口光學晶體窗口。

　　5.真空設備&科研光學

　　適配真空紫外腔體、高能物理實驗設備、精密真空檢測窗口。

　　寬光譜透過、低放氣、高潔凈、光學一致性高，滿足高校實驗室、科研單位、精密設備研發需求。