德國原廠HellmaCaF2氟化鈣單晶LD-A等級，是專為193nmArF深紫外光刻工況定制的高純光學(xué)晶體，采用優(yōu)選晶向單晶工藝，區(qū)別于普通工業(yè)級氟化鈣。具備193nm超高透過率、超低應(yīng)力雙折射、高激光損傷閾值、低色散無波前畸變等核心優(yōu)勢，長期適配半導(dǎo)體DUV光刻機、高重頻準分子激光設(shè)備量產(chǎn)工況，性能穩(wěn)定、壽命持久，附帶原廠全套檢測證書，深紫外精密光學(xué)設(shè)備核心基材。

　　核心產(chǎn)品特點

　　1、LD-A光刻專屬品級，德國原廠品質(zhì)保障

　　HellmaLD-A為193nm光刻專用定型品級，采用6N超高純原料提純，嚴格管控ppb級微量雜質(zhì)、晶格缺陷與色心缺陷，針對性適配深紫外激光嚴苛使用場景。全程德國耶拿原廠生長、拋光、檢測，無二次代工，每批次產(chǎn)品均可提供折射率均勻性、雙折射、激光損傷閾值、透過率原廠檢測報告，滿足半導(dǎo)體廠商入料審核、設(shè)備商檢及量產(chǎn)溯源要求，是光刻機行業(yè)通用標準化優(yōu)選牌號。

　　2、193nm深紫外超高透光，極低能量損耗

　　針對193nm波段專項光學(xué)優(yōu)化，無雜散光、無吸收峰，193nm內(nèi)透過率可達99.3%/cm以上，大幅優(yōu)于熔融石英等常規(guī)光學(xué)材料。有效降低ArF準分子激光光路能量損耗，減少設(shè)備熱累積，提升激光輸出穩(wěn)定性與整機加工、曝光精度。透光波段覆蓋130nm–8μm，兼容深紫外、可見光、紅外多波段光路設(shè)計，適配多類型精密光學(xué)系統(tǒng)。

　　3、超低光學(xué)畸變，保障納米級精密成像

　　采用<111>晶向定制工藝，色散系數(shù)極低，可高效校正光刻系統(tǒng)色差；折射率均勻性優(yōu)異，搭配超低應(yīng)力雙折射參數(shù)，有效杜絕光束波前畸變、偏振像差問題。曝光光斑均勻無陰影，適配半導(dǎo)體先進制程曝光需求，大幅提升光刻成像精度與芯片生產(chǎn)良率，是DUV光刻機物鏡、照明系統(tǒng)的核心核心基材。

　　4、超高激光損傷閾值，工業(yè)長效耐用

　　193nm激光損傷閾值＞10J/cm2，可長期耐受數(shù)千Hz高重頻ArF準分子激光持續(xù)輻照。高能量激光長期照射下不會產(chǎn)生色心、透光衰減、表面老化破損等問題，元件使用壽命大幅延長，有效減少光刻、激光設(shè)備停機維保頻次，適配24小時不間斷工業(yè)量產(chǎn)嚴苛工況。

　　5、優(yōu)異工況耐受性，適配多場景復(fù)雜環(huán)境

　　氟化鈣單晶結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，熱導(dǎo)率高，抗激光熱畸變能力強，高功率激光工作下無光路漂移、無局部開裂問題。溫域適配范圍廣，高低溫環(huán)境下光學(xué)性能無明顯波動；同時具備低溶解度、防潮解、抗振動、抗沖擊特性，可穩(wěn)定適配真空腔體、潮濕車間、高低溫循環(huán)、高能輻射等復(fù)雜工業(yè)與科研場景。

　　核心應(yīng)用場景

　　-半導(dǎo)體光刻設(shè)備：193nmDUV干式/浸潤式光刻機投影物鏡、照明系統(tǒng)鏡片、激光諧振腔輸出窗口、光路整形基底

　　-工業(yè)精密激光設(shè)備：193nmArF準分子激光微加工、精密刻蝕、激光打孔設(shè)備光學(xué)窗口與核心鏡片

　　-科研儀器：深紫外光譜儀、真空分析儀器、紫外探測設(shè)備光學(xué)核心元件

　　-航天遙感設(shè)備：大氣紫外探測、深空遙感載荷深紫外光學(xué)窗口